Canon Nanoimprint Lithography

Canon Nanoimprint Lithography
Photo by Maxence Pira / Unsplash

แคนนอนประกาศเปิดโต  Nanoimprint Lithography (NIL) รุ่น FPA-1200NZ2C ซึ่งเป็นเครื่องผลิตเซมิคอนดักเตอร์ (semiconductor) หรือ ชิปคอมพิวเตอร์ ระดับไฮเอน ที่ทางแคนนอนบอกว่า สามารถใช้ผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขนาด 15 นาโนเมตร (เล็กสุดได้ถึง 5 นาโนเมตร)

ซึ่ง NIL ใช้เทคโนโลยีที่แตกต่างไปจากเครื่อง EUA Lithogrpahy ของ ASML เพราะว่า EUA เป็นเทคโนโลยีที่เรียกว่า  photolithography  ที่ใช้แสงอัลตราไวโอเล็ตในการพิมพ์ (แกะ)  ลายแผงวงจรลงบนชั้นเรซิ่น (resin) ที่เคลือบบนแผ่นเวเฟอร์ (wafer)

แต่ NIL เป็นเทคโนโลยี nanoimprint lithography ที่คล้ายเครื่องพิมพ์อิงค์เจ็ต โดยการพ่นเรซิน (resin) เป็นลายแผงวงจรบนแผ่นเวเฟอร์ แล้วใช้แม่พิมพ์ กดลงบนชั้นเรซิน  ที่พิมพ์ลายวงจรไว้   เทคนิคของ NIL นี้มีการใช้แสงอัลตราไวโอเล็ตเป็นตัวทำให้เรซินแข็งตัวเท่านั้น

ทางเทคนิคแล้ว NIL จึงมีต้นทุนในการผลิตชิปที่ถูกว่า EUA เพราะลดกลไกการควบคุมแสงอัลตราไวโอเล็ตที่ซับซ้อนลงไป และลดการใช้พลังงานที่ต้องใช้ในการสร้างแสงความเข้มข้นสูง